F.unctio Instructiones deFusio Resinae Epoxydicae in Vacuo apparatum
1. Apparatus automaticus ad fundendum in vacuo technologiam mixtionis dynamicae provectissimam hodie adhibet, descriptio functionis apparatus haec est:
2. Distributio automatica partium: Post degassationem materiae A et B, distributio automatica partium per mixturam proportionis secundum constitutum fit, ut reductio intensitatis laboris et productio civilizata fiat; ut error ingredientium minus quam +/- 0.3 kg sit.
3. Degassatio automatica: Degassatio tenuis pelliculae, gradus vacui constitui potest, imperium automaticum,
Vitandae sunt partes diuturnae evaporationis in alto vacuo efficaces.
4. Mixtore dynamico utens: uniformitas miscendi, alta efficacia, nulla pollutio, purgatio commoda.
5. Gradus automationis altus, operatio commoda, instructa interfacie hominis-machinae provecta. Monitorium et memoria processus.
Compositio instrumentorumnamFusio Resinae Epoxydicae in Vacuo
| Systema cisternae mixtionis et degassationis resinae 300L | 1 par |
| Systema cisternae miscendi et degassandi agentis curantis 300L | 1 par |
| Systema electronicum mensurae translationis librae | Duo series |
| Systema cisternae mixtionis finalis 300L | 1 par |
| Systema cisternae fundendae in vacuo | 1 par |
| Systema calefactionis | Quattuor series |
| Systema vacuum | Duo paria |
| Systema aquae refrigerandae | 1 par |
| Systema pneumaticum | 1 par |
| Systema moderationis | 1 par |
| Instrumenta ferrea suggestus | 1 par |
Parametrus technicusnamProcessus Fusionis Vacui:
| Magnitudo cisternae infundendi | Φ2800 × 3500mm |
| Celeritas pumpandi antliae principalis systematis vacui | 600L/S |
| Temperatura operandi ollae infundentis | 70~85℃ |
| Gradus vacui limitans cisternae infundentis (frigida, vacua) | ≤20Pa |
| Ratio effluxus cisternae infundentis | ≤50Pa.L∕S |
| Gradus vacui operandi in cisterna infundendi | 100~300Pa |
| Pressio operativa cisternae infundentis | Pressio atmosphaerica ~ 0.6MPa |
Ab -
Ab -